GE被美《R&D》雜志評為“全球最佳R&D公司”
    2007-11-28    作者:壽川    來(lái)源:《市場(chǎng)報》2007-11-28 第14版
    本報訊 日前,美國權威科學(xué)技術(shù)雜志《R&D》雜志評選出全球十家“最佳R&D公司”,GE名列前茅。同時(shí),GE還被選為“最成功應對人類(lèi)科技挑戰的公司”,即在解決能源短缺、全球變暖、環(huán)境污染以及疾病防治等影響人類(lèi)未來(lái)生存的重大問(wèn)題方面最有成效的公司;在“研發(fā)人員最理想的工作之選”評選中,成為研發(fā)人員評價(jià)最高并且最向往加入的企業(yè)。該評選是由R&D雜志在今年9月份,通過(guò)對全球130家研發(fā)實(shí)力強大的公司在包括知識產(chǎn)權、社區服務(wù)、財務(wù)狀況在內的多項分析和讀者反饋調研得出的結果。
    GE公司高級副總裁Mark Little表示,本次評選是對于GE在研發(fā)方面努力的認可。在過(guò)去的10年,GE投資了上千億美元用于擴大在美國、歐洲及亞洲研發(fā)力量的建設和投入。GE公司在可再生能源、納米技術(shù)、生化科技、安防等技術(shù)的研發(fā)方面都做出了巨大的努力。今天,GE在全球擁有四個(gè)研發(fā)中心,分別設在美國紐約、印度班加羅爾、中國上海和德國慕尼黑。
    GE中國研發(fā)中心每年完成100多個(gè)研究項目,其中包括1/3左右的基礎科研項目。截至2006年底,GE中國研發(fā)中心共申請了200多項專(zhuān)利。
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