記者4日從國家知識產(chǎn)權局獲悉，2023年，我國共授權發(fā)明專(zhuān)利92.1萬(wàn)件，同比增長(cháng)15.4%；授權實(shí)用新型專(zhuān)利209萬(wàn)件、外觀(guān)設計專(zhuān)利63.8萬(wàn)件；注冊商標438.3萬(wàn)件，登記集成電路布圖設計1.13萬(wàn)件。

　　國家知識產(chǎn)權局局長(cháng)申長(cháng)雨介紹，2023年，我國通過(guò)PCT、海牙、馬德里體系分別提交專(zhuān)利、外觀(guān)設計、商標國際注冊申請73812件、1166件（前11個(gè)月）、6196件，穩居世界前列。

　　知識產(chǎn)權轉化運用方面，2023年，全國專(zhuān)利商標質(zhì)押融資額達8539.9億元，同比增長(cháng)75.4%，惠及企業(yè)3.7萬(wàn)家；達成專(zhuān)利開(kāi)放許可1.7萬(wàn)項；2023年前11個(gè)月，我國知識產(chǎn)權使用費進(jìn)出口總額達3345億元。

　　知識產(chǎn)權審查質(zhì)量效率也持續提升。申長(cháng)雨介紹，發(fā)明專(zhuān)利平均審查周期縮短至16個(gè)月，首次實(shí)現結案量超過(guò)進(jìn)審量。商標注冊平均審查周期穩定在4個(gè)月，一般情形商標注冊周期穩定在7個(gè)月。